Выбор топологии импульсных силовых каскадов
К числу преимуществ коммутационных устройств на основе широкозонных технологий GaN и SiC относится меньшее сопротивление открытого канала и сравнительно высокая теплопроводность, что позволяет улучшить эффективность и работоспособность конечного приложения при более высокой температуре. у импульсных источников питания на основе GaN и SiC повышается КПД и плотность мощности. Однако для реализации этих преимуществ недостаточно только заменить кремниевые устройства широкозонными, а в некоторых случаях оптимальным является выбор кремниевой технологии.
Рисунок 1
Рисунок 2
У технологий Si Superjunction и SiC MOSFET – вертикальная структура, а у GaN MOSFET – горизонтальная
Характеристические показатели ключей, выполненных по разными полупроводниковым технологиям, с номинальными напряжениями 600/650 В
Высокоэффективные импульсные источники питания
К настоящему времени участники отрасли сделали выбор в пользу нескольких коммутационных технологий, в т. ч. для применения в каскаде коррекции коэффициента мощности (ККМ) и изолированном высоковольтном DC/DC-преобразователе. Для начала мы сравним разные коммутационные технологии, чтобы понять, действительно ли решения на основе GaN или SiC лучше кремниевых аналогов.
У кремниевых устройств, выполненных по технологии Superjunction, и у SiC MOSFET – схожие вертикальные структуры, тогда как ключи GaN MOSFET имеют горизонтальную структуру. Это значит, что ток течет через Si- и SiC-устройства сверху вниз на подложку, а в горизонтальной структуре GaN он протекает от истока, затвора к стоку, которые соединены с поверхностью с помощью отдельных металлизированных слоев (см. рис. 1). Электроны в этой, по сути нелегированной, кристаллической структуре с малым количеством примесей обладают высокой подвижностью, что отражено в названии HEMT (транзисторы с высокой подвижностью электронов).
В результате использования разных конструкций и разных полупроводниковых материалов рабочие характеристики рассматриваемых устройств заметно различаются. Об этом свидетельствует характеристический показатель (FoM), который учитывает проводимость устройств (RDS(ON)) и коммутационные потери (см. рис. 2а–в).
По таким параметрам как заряд сток–исток (QOSS), заряд обратного восстановления (QRR) и заряд затвора (QG) у ключей SiC MOSFET – лучше характеристический показатель по сравнению с устройствами Si Superjunction. Однако кремниевые ключи превосходят конкурентов по энергии, запасенной в выходной емкости (EOSS). В то же время все характеристики GaN MOSFET лучше, чем у аналогов. Однако для полноты картины требуется более тщательный анализ.
Современные импульсные источники питания должны обеспечить более высокую мощность при меньшем занимаемом объеме. Уменьшение расстояния между компонентами неизбежно приводит к росту рабочей температуры, что сказывается на величине RDS(ON). Благодаря малому уровню примесей в транзисторах GaN HEMT величина RDS(ON) в меньшей мере зависит от температуры, чем у кремниевых ключей. Однако наименьшая зависимость RDS(ON) от температуры – у SiC-устройств. Так, например, из рисунка 3 видно, что приведенные при 25°C значения RDS(ON) карбидокремниевых ключей на 30% меньше, чем у GaN HEMT, и на 50% меньше по сравнению с устройствами, выполненными по технологии Si Superjunction при 100°C. Следовательно, у ключей Si Superjunction с RDS(ON) = 70 мОм характеристический показатель хуже, чем у 100-мОм SiC-устройств при рабочей температуре системы, что влияет на суммарную эффективность импульсного источника питания.
Рисунок 3
Рисунок 4
Приведенное сопротивление RDS(ON) Si-, SiC- и GaN-ключей при разных значениях температуры перехода TJ
Эффективность двухтактных корректоров коэффициента мощности при использовании GaN- и Si-технологий может превысить 90%
Практический пример
Разработчики постоянно функционирующих источников питания для телекоммуникационных приложений ищут способы сократить эксплуатационные затраты. К настоящему времени изделие с КПД = 97% считается стандартным, а КПД = 98% имеется у устройств премиального класса. Разработчики пытаются найти оптимальную топологию и таким образом выбрать полупроводники, чтобы и каскад ККМ, и высоковольтный DC/DC-каскад обеспечивали требуемую эффективность системы.
В рассматриваемом примере импульсному источнику питания мощностью 3 кВт с пиковым КПД = 98% при 50-% нагрузке требуется каскад ККМ с КПД = 99%. В типовых решениях в таких случаях используются двухтактные топологии – мостовая или полумостовая в режимах непрерывной проводимости (CCM) или граничной проводимости, когда ток имеет треугольную форму (TCM), с двойным повышением или H4/H-мостовая конфигурация. Однако не каждая полупроводниковая технология идеальна при необходимости обеспечить наибольшую эффективность.
Из рисунка 4 видно, что величина эффективности 99,3% GaN-устройств в полномостовой двухтактной конфигурации в режиме CCM достигается в то время, когда эффективность ключа Si Superjunction MOSFET в двухтактной топологии в режиме TCM немногим больше 99%.
Однако новые GaN- и SiC-технологии не работают так же хорошо в других топологиях. Двухтактная полумостовая топология на основе GaN в режиме CCM позволяет сэкономить на двух ключах, но при эффективности около 98,8% она становится непригодной для импульсных источников питания с заданной эффективностью 98%. То же относится к использованию SiC-ключей в двухтактной топологии в режиме CCM, обеспечивающей эффективность около 98,6% (см. рис. 5). Таким образом, несмотря на теоретически высокие показатели GaN- и SiC-технологий, ключи Superjunction Si MOSFET по-прежнему предпочтительнее использовать в тех случаях, когда топологии усиливают преимущества этих устройств. Следует также заметить, что стоимость применения новых технологий в двухтактной конфигурации ККМ в режиме ТСМ – самая высокая по сравнению с кремниевой технологией, и управлять ими намного труднее.
Итак, можно сделать вывод, что кремниевые ключи по-прежнему обладают ценовым преимуществом на компонентном уровне, и, кроме того, у инженеров накоплен немалый опыт работы с этой технологией. Однако при этом нельзя недооценивать сложность проектирования и управления кремниевыми ККМ-конфигурациями. Эти топологии обеспечивают ту же эффективность, что и широкозонные устройства, но требуют больше усилий от разработчиков.
Рассмотрим теперь высоковольтный DC/DC-каскад. И в этом случае необходимо обеспечить самую высокую эффективность 98% при 50-% нагрузке. Это значит, что эффективность рассматриваемого каскада должна как минимум составлять 99,1% при той же нагрузке. Возможно, наиболее простой топологией в данном случае является полумостовой LLC-преобразователь, который хорошо известен разработчикам и годится для использования с Si-, GaN- и SiC-ключами. Однако эта топология не обеспечивает пиковую эффективность импульсных источников питания выше 97% (при нагрузке 50%), что также зависит от эффективности ККМ при той же нагрузке.
Пиковую эффективность величиной 98% при 50 -% нагрузке для импульсного источника питания обеспечивает полумостовой трехфазный LLC-преобразователь, но в таком случае отпадает необходимость в GaN- и SiC-ключах, поскольку они не дают других дополнительных преимуществ. Плотность компоновки можно было бы увеличить путем интеграции трех трансформаторов на один сердечник. Однако это непростая задача, поскольку требуется достаточно сложный анализ магнитных компонентов.
В тех случаях когда у GaN- и SiC- ключей имеются другие преимущества, к которым, например, относится корпусирование, можно использовать полно- или полумостовую двухфазную LLC-топологию. Обе позволяют распределять генерируемое тепло по всей схеме. Преимущество полумостовой топологии заключается в использовании меньшего числа компонентов и в более простом управлении, а полномостовая конфигурация позволяет лучше управлять пульсациями и чуть лучше распределять тепло.
В тех случаях, когда плотность мощности является критически важным требованием, применяется высоковольтный DC/DC-каскад с более высокой коммутационной частотой, что позволяет сократить размеры магнитных компонентов. При этом ухудшается эффективность, хотя и в разной степени в зависимости от того, какие ключи используются, – Si, GaN или SiC. В наибольшей мере ухудшается эффективность кремниевых устройств, поскольку резонансная частота LLC- преобразователя становится равной 300 кГц, а затем 500 кГц; в меньшей степени изменяется эффективность карбидокремниевых ключей. Однако у GaN-ключей – впечатляющая эффективность даже при 500 кГц (см. рис. 6).
Результирующее повышение плотности мощности зависит от сокращенного объема, занимаемого компонентами. SMD- и другие компоненты, а также вспомогательный источник питания не оказывают существенного влияния на этот показатель. Уменьшить занимаемый объем можно, главным образом, за счет трансформаторов, дросселей, электролитических конденсаторов, силовых полупроводников, радиаторов и способов охлаждения. В результате сокращается около 30% занимаемого места, что позволяет увеличить резонансную частоту со 100 до 300 кГц.
Рисунок 5
Рисунок 6
В тех случаях, когда топологии усиливают преимущества традиционных кремниевых ключей, их эффективность превосходит показатели GaN и SiC ККМ
Влияние резонансной частоты на эффективность топологии LLC при использовании Si-, GaN- или SiC-ключей
Какая технология лучше?
Предпочтительный выбор топологии определяется не только наилучшим характеристическим показателем. Традиционные кремниевые ключи, используемые в огромном количестве приложений, в отношении которых накоплен немалый опыт разработки, останутся лидерами в большинстве импульсных источников питания с высокими требованиями благодаря самой высокой эффективности.
Однако широкозонные GaN- и SiC- технологии обладают преимуществами при использовании соответствующих топологий и в тех случаях, когда, например, необходимо обеспечить высокую плотность мощности (GaN) или работу в жестких условиях либо при высокой температуре (SiC). Подчеркиваем, предпочтительной для проектирования является не самая новая и привлекательная технология, а такой выбор полупроводниковых ключей от надежного производителя, который основан на взвешенном и непредвзятом подходе.